搜索结果: 1-15 共查到“知识库 光学工程 薄膜”相关记录292条 . 查询时间(0.072 秒)
【Review】 静电雾化印制高性能薄膜光伏（图）
静电雾化 薄膜光伏 太阳能电池
2022/6/13
太阳能电池是一种可以直接将清洁、可再生的并且体量巨大的太阳能转化为电力的装置。在过去的10年，随着低成本可再生能源技术的发展，基于溶液的太阳能电池(SPPV)和其他太阳能电池相比也逐渐表现出竞争力。目前有三种主流的SPPV：聚合物太阳能电池、钙钛矿太阳能电池和染料敏化太阳能电池(DSSC)。每种电池的能量转化效率(PCE)都超过14%。和原材料是硅的太阳能电池相比，由于SPPV可以在低温低压下由丰...
薄膜厚度对射频磁控溅射β-Ga2O3薄膜光电性能的影响
β-Ga2O3薄膜 日盲紫外探测器 薄膜厚度 光电探测性能
2022/3/11
本文在室温下利用射频磁控溅射技术在(001)蓝宝石衬底上制备了不同厚度的β-Ga2O3薄膜，随后将其置于氩气气氛中800℃退火1h。利用XRD，SEM，UV-Vis分光光度计、PL光致发光光谱仪和Keithley4200-SCS半导体表征系统等考察薄膜厚度对所得氧化镓薄膜相组成、表面形貌、光学性能以及光电探测性能的影响。结果表明，随着薄膜厚度的增加，薄膜结晶质量提高，840nm薄膜最佳，1050n...
光纤基底TiNi形状记忆合金薄膜制备工艺
光纤 TiNi薄膜 磁控溅射 工艺参数
2022/3/17
将TiNi基记忆合金薄膜与光纤相结合可制成智能化、集成化且成本经济的微机电系统和微传感器件。本文采用磁控溅射法在二氧化硅光纤基底上制备TiNi记忆合金薄膜，系统讨论了溅射工艺参数以及后续退火处理对薄膜质量的影响。采用自研制光纤镀膜掩膜装置在直径为125μm的光纤圆周表面上形成均匀薄膜。实验表明：在靶基距、背底真空度、Ar气流量和溅射时间一定的条件下，溅射功率存在最佳值；溅射压强较大时，薄膜沉积速率...
在光学薄膜领域中，SiO2具有低吸收系数、耐腐蚀性、硬度高等特性，是制备高性能光学薄膜的首选低折射率材料。在光学薄膜制备过程中，不仅需要满足超低吸收和散射损耗，还需要控制镀膜后残余应力的大小。过大的残余应力会造成光学元件基底和镀膜表面变形以及折射率各向异性，甚至激光损伤，使入射到薄膜上的反射光波前产生很大的畸变，偏离光学系统路径而无法正常工作。然而，一定大小的残余应力还可以提高薄膜的硬度以及对基底...
经过多组对比实验，通过XRD、AFM、SEM等表征手段优化了BST薄膜的制备工艺。结合BST基薄膜器件的电极制备、微结构加工制备了太赫兹频段电可调的频率选择表面。通过太赫兹测试系统验证了在太赫兹频段BST薄膜的可调性，在电场作用下通带频率可以从0.85 THz调节到0.87 THz，结合仿真研究给出了确定铁电薄膜在THz频段介电参数的方法。相关研究可用于精确测定铁电薄膜在THz频段的介电特性，为铁...
利用电子束蒸发技术制备了氧化铪薄膜，并分别用氧气氛下退火和激光预处理两种后处理方法对样品进行了处理。介绍了两种后处理工艺和相关的设备，测试分析了样品的透过率、吸收和抗激光损伤阈值。对比了两种后处理方法对降低吸收和提高激光损伤阈值的效果，讨论了它们的作用原理。实验结果表明，激光预处理能有效降低样品的吸收值，提高样品的抗激光损伤阈值。采用一步法（50%初始损伤阈值）预处理后，三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值...
离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性
Ta2O5薄膜 禁带宽度 Urbach带尾宽度 制备参数 影响权重
2017/2/27
Ta2O5薄膜是可见光到近红外波段中重要的高折射率薄膜材料之一。本文针对离子束溅射制备Ta2O5薄膜的光学带隙特性开展了实验研究工作，基于Cody-Lorentz模型表征了薄膜的光学带隙特性，重点针对薄膜的禁带宽度和Urbach带尾宽度与制备参数之间的相关性进行研究。研究结果表明：在置信概率95%以上时，对Ta2O5薄膜禁带宽度影响的制备参数，权重大小依次为氧气流量、基板温度、离子束电压；而对Ta...
薄膜谐振Lamb波传感器测量液体流速矢量的方法
薄膜谐振型Lamb波传感器 消逝波 反对称模式 流速矢量测量
2017/2/27
针对液体流速测量领域中微型流量传感器高品质因数、高灵敏度的性能要求。本文设计一种双端增强型薄膜谐振结构实现Lamb波传感器的高品质因数，利用传感器反对称模式（A01模式）在薄膜-液体界面处的消逝波实现液体流速矢量测量。所制作的双端增强型薄膜谐振Lamb传感器A01模式的主峰品质因数为703，A01模式的频率移动量与液体流速大小存在线性关系，频率移动方向与液体流动方向存在对应关系。流速实测灵敏度约为...
弯月面化学涂膜技术因其具有大面积、低成本以及高效率等优势成为继旋涂、喷涂等传统涂膜工艺后极具发展潜力的新型化学薄膜涂覆技术。本文针对国家某重大项目对米级光学元件表面的化学薄膜涂覆需求，对基于弯月面涂胶的技术原理进行了系统研究，分析了涂胶压强、基片和狭缝间距以及材料亲疏水性与涂胶面形态的关系，实现了对弯月液面的精密调控并研制出基于弯月面化学薄膜涂覆技术的装备，在1 400 mm×420 mm尺寸玻璃...
为了满足空间衍射成像系统对大口径、轻量化衍射元件的需求，设计制作了直径为400 mm 的聚酰亚胺（PI）薄膜菲涅尔衍射元件。通过紫外光刻、离子束刻蚀等微细加工方法在石英基底上制作衍射图形，然后将衍射图形复制到 PI 薄膜上得到菲涅尔衍射型薄膜元件。结合有限元法探究了薄膜复制过程中热应力的变化规律及降低热应力的方法，分析了影响薄膜衍射效率的因素及薄膜制作误差、温度变化对薄膜成像的影响， 最终实现了大...
提出了应用激光诱导击穿光谱技术对薄膜损伤特性进行表征的方法,研究了纳秒脉冲激光作用下薄膜损伤时的等离子体光谱特征,并应用该技术对薄膜的抗激光损伤特性进行了测量.实验测得,HfO2单层膜在78 mJ的激光能量的辐照下,薄膜损伤时的等离子体温度为2 807.4 K,且电子密度为7.4×1017cm-3.利用识别薄膜损伤时的等离子体光谱的特征,准确地判断了薄膜是否损伤,避免了薄膜损伤的误判现象.结果表明...