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搜索结果: 1-15 共查到知识库 光学工程 重点实验室相关记录25条 . 查询时间(1.18 秒)
利用电子自旋进行信息的传递、处理与存储,开展相关自旋电子材料与器件的物理研究。探索高性能自旋电子材料制备,研究自旋的注入及自旋轨道耦合相关物理现象与效应;实现全电学的自旋调控,研制自旋存储、逻辑及自旋人工智能器件。
光电功能材料重庆市重点实验室于2011年被重点市科委批准立项建设。现实验室面积达3000余平米,仪器设备总值2100多万元。实验室固定成员32人,其中具有正高职称者11人、副高职称者18人、中级职称者3人,是一支学历、职称,相关专业背景,人员年龄结构合理;具有从基础研究到应用研究的多层次,从物理、材料工程到光学工程的多角度,相互间交叉、有机结合的发展潜力;具备承担国家重点和省部级重大科研项目的能力...
光学工程实验室始建于1990年,2001年被重庆师范大学列为校级重点实验室,2004年8月被重庆市教委批准立项建设重庆市高校市级重点实验室,2006年12月通过市教委的验收。目前,实验室面积1350余平米,科研仪器设备总值1200多万元,基本能满足科研和教学要求。
中国科学院半导体材料科学重点实验室主要研究内容:(1)低维半导体材料的生长及表征、光电特性预测、原理器件验证;(2)红外及THz量子级联材料与器件;(3)光子集成材料和器件;(4)宽禁带半导体材料与器件;(5)单晶衬底及特殊环境半导体材料。
曝光光学系统“大口径衍射光学元件的研制”研制成功大口径脉宽压缩光栅掩膜,在介质反射光栅制作技术、测试和工艺达到国际先进水平,填补了我国在该领域的空白。
研究微纳结构图形的快速制造方法、微纳制造系统(干涉光刻、微区纳米压印、卷对卷纳米压印等)及在显示、太阳能电池行业的产业化。重点研究方向是,微纳制造技术在显示(LCD、OLED、E-paer)、新型太阳能电池和立体成像领域中的关键制造技术、器件与微结构材料;公共安全的微纳结构光学视读器件。重点实验室与维格公司紧密合作,与国内行业领头企业如比亚迪等公司建立了产学研关系。在新型光导薄膜研发、高亮度薄膜显...
微结构光学与光子技术是近年来迅速发展起来的一门新兴学科。微纳结构亚波长光学元件是一种具有独特光学性能的衍射光学器件。 在微结构光学器件的研究上,本实验室结合微观与宏观两大趋势,兼容“大尺度”与“微纳结构”。
这是一款新型的高性能激光全息光刻制版设备,具有6500dpi图形分辨率、支持3D真彩色图像、超微文字与微图形、光学可变图像、二元光学元件、光子晶体、衍射光栅。软件支持用户自主开发。经过大量国内外客户应用反馈,HoloMakerIII-B的各项性能指标代表了全息行业的领先水准,可实现几乎所有类型的光变图形。HoloMakerIII-B拥有自主知识产权(多项中国发明专利授权和国家软件著作权登记)。可根...
宽幅智能激光SLM光刻设备HoloScanV是一款“大型激光光刻制版系统”,整版(800mmx610mm)制版时间仅4-17小时,适合于200um以上的微结构干涉图形制作。通过多光束与单光束互换功能,HoloScanV支持激光直写精密矢量化掩模图形,分辨率达210um。HoloScanV具有自主知识产权,拥有多项授权发明专利,3项软件著作权登记,江苏省优秀专利奖。HoloScanV的研制得到科技部...
微区纳米压印系统(NanoMakerII)”主要针对“阵列微纳米结构器件和模具”的研制,如制作微透镜阵列、光变衍射图像阵列、MEMS和微纳光电子器件等。NanoMakerII具有压印深度和微结构转角可控特点,根据设计要求压印出不同深度和取向角的压印单元并组成列阵。NanoMakerII 的压印方法已申请中国发明专利。
iGrapher810具有在40"尺度上进行亚微米至纳米结构图形快速制造(Nano-structrure patterning)的性能。在光斑中通过多光束干涉技术调制了100nm以上周期与准周期结构(线条、点阵、蜂窝、随机线等),图形的制作时间取决于光斑像素的尺寸,与像素内部的微纳结构无关。
拥有国内一流(最大)的激光干涉光刻设施,自主研制了“宽幅激光图像光刻直写设备(HoloScanV)”(610mmx800 mm),自主研制了宽幅精密激光直写系统、大尺寸光刻胶干板处理设备、大型微纳米压印设备等,建立了配套完整了微纳米光刻、离子刻蚀、ICP刻蚀、紫外DPSSL激光光刻、刻蚀设备,购买了大型台阶仪(3nm),高精度离子刻蚀机以及大型激光器等,加强和巩固了实验室在数码激光图像技术上一流的...
实验室承担了大口径空间非球面反射镜加工与检测技术解决了一系列关键技术,包括加工工艺、检测技术、检测支撑技术、模拟空间失重的支撑技术及光学计量的防震技术等,成功研制了口径超过1m,面形精度优于入/50RMS的大口径轻量化非球面反射镜。获得了教育部科学技术进步奖二等奖。这标志着我国在大口径空间非球面光学元件制造技术迈上了一个新台阶,这必将使我国光学遥感器的水平提高到一个新阶段。

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