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搜索结果: 1-3 共查到光学工程 Talbot效应相关记录3条 . 查询时间(0.055 秒)
专利名称:基于Talbot效应的相位恢复装置及其工作方法。专利类别:发明。申请日期:2017.08.23。专利号:ZL201710730789.X。第一发明人:李常伟。其它发明人:张思炯;陈升。
利用周期极化反转的铌酸锂晶体设计与制备圆形周期单元六角结构排列的可调位相阵列器,对位相阵列器的Talbot效应光衍射成像进行理论和实验研究,得到了不同位相差和不同分数Talbot距离条件下阵列器近场衍射的理论仿真和实验观测图像,实验结果与理论研究相符.计算衍射场取样区域内平均强度,获得取样区内强度随位相差和Talbot距离变化的曲线,揭示了位相差和衍射位置对阵列器衍射强度分布的影响.
提出了一种基于Talbot效应的适用于长焦距透镜的焦距测量方法。将透镜这一典型位相物体加入平行光场中的两块光栅之间,莫尔条纹就会产生变化。用CCD拍摄莫尔条纹,利用MATLAB做图像处理,测得被测透镜与第二块光栅的间距r及两光栅栅线夹角θ的值,再算出细化后的莫尔条纹斜率k,就可准确算出透镜的焦距f。激光波长λ为0.65μm,被测透镜焦距为420mm,测量精度为0.10%。该方法具有装置简单、精度高...

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