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中国科学院金属研究所专利：一种离子镀弧斑控制装置
中国科学院金属研究所 专利 离子镀 弧斑控制
2023/12/21
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种新型离子镀弧斑控制装置, 所述新型离子镀弧斑控制装置的靶材底座后面设有由小型直流电机或者交流电机 驱动的旋转磁场发生装置,电机驱动固定在电机转轴上的磁轭带动合理分布在磁 轭上的永磁体转动,不同的永磁体分布产生不同位形结构的旋转磁场,实现多控 制模式的目的。本实用新型利用简单紧凑的装置结构和不同的永磁体分布方式, 产生不同位形的动态旋转磁场,用以改善弧斑的放...