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中国科学院化学所等发展直写高性能原子级厚二维半导体薄膜新策略(图)
化学所 高性能原子 二维半导体 薄膜
2022/11/11
二维(2D)半导体材料为将摩尔定律扩展到原子尺度提供了机会。与传统基于蒸镀和光刻技术的加工技术相比,印刷电子因成本效益、灵活性以及与不同衬底的兼容性而受到关注。目前,印刷的二维晶体管受到性能不理想、半导体层较厚和器件密度低的制约。同时,多数二维材料油墨通常使用高沸点溶剂,随之而来的问题包括器件性能退化、高材料成本和毒害性等,难以大规模应用。因此,发展简单且环保的策略对于制造低成本、大规模的打印二维...
最新半导体薄膜仅为三个原子厚(图)
半导体薄膜 三个原子厚
2015/5/15
美国科学家首次制造出厚度仅为三个原子的二硫化钼半导体薄膜,其不仅身材纤细,而且拥有优异的电学属性,可广泛用来制造各种超薄的电子设备。该研究的领导者、康奈尔大学化学和化学生物学助理教授吉沃格·帕克说:“新得到的二硫化钼半导体薄膜的电学性能可与二硫化钼单晶体相媲美,但我们得到的并非纤薄的晶体,而是4英寸的晶片(晶体上按一定方位角切下的薄片)。”
据物理学家组织网近日报道,美国莱斯大学和橡树岭国家实验室(ORNL)的科学家合作开发出一种新方法,可以控制二硫化钼(MDS)原子层整齐一致地生长,借此朝制造二维电子设备前进了一步。相关研究发表在本周出版的《自然·材料学》杂志上。