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搜索结果: 1-4 共查到电子科学与技术 h-BN相关记录4条 . 查询时间(0.031 秒)
伴随石墨烯研究的兴起,其它二维原子晶体也陆续进入人们的研究视野。其中,六方氮化硼(h-BN)逐渐成为该领域的又一亮点。高度相似的晶体结构赋予h-BN与石墨烯一些共同特性,如极高的面内弹性模量、高温稳定性、原子级平滑的表面。由于两者晶格失配很小,石墨烯可以均匀紧密地铺展在h-BN衬底上,特别是,h-BN表面极少有悬挂键和电荷陷阱的存在,有利于还原本征石墨烯极高的载流子迁移率。此外,h-BN具有宽禁带...
贝叶斯网络是数据挖掘领域的主要工具之一.在某些特定场合,如重大装备的故障诊断、地质灾害预测及作战决策等,希望用少量数据得到较好的结果.因此,本文针对小数据集条件下的贝叶斯网络学习问题展开研究.首先,建立基于连接概率分布的结构约束模型,提出I-BD-BPSO(Improved-Bayesian Dirichlet-Binary Particle Swarm Optimization)结构学习算法;其...
面对不断变化的未来不确定作战环境,在有限资源和技术水平下,武器装备体系顶层设计人员需要辨识与明确对体系建设目标影响最大的能力集合。提出用带置信度的区间数度量武器装备体系能力,用beta分布描述武器装备体系能力性能指标先验分布概率,在武器装备体系能力指标分解结构基础上构建了基于贝叶斯网络的武器装备体系能力重要度评估模型,利用贝叶斯网络的推理功能提出了能力重要度计算方法。最后,以空战武器装备体系为背景...
成果内容简介:紫外光刻胶是电子工业中大规模集成电路微细加工过程中不可缺少的基础性关键材料,其应用性能的优劣直接影响着电路线宽的粗细和成品率的高低。它又分为紫外正型光刻胶和紫外负型光刻胶。(1)BP-215紫外正型光刻胶:它是指在紫外光照射后经一系列处理后所得图像与掩膜版一样的抗蚀剂,目前电子工业使用的正胶主要是重氮萘醌-酚醛树脂系正胶。BP-215紫外正型光刻胶具有分辨率高、抗干法腐蚀强、耐热性好...

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