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摘要 采用高分辨透射电子显微镜对高硬度的TiN/Si3N4纳米晶复合膜的观察发现, 这类薄膜的微结构与Veprek提出的nc-TiN/a-Si3N4模型有很大不同: 复合膜中的TiN晶粒为平均直径约10nm的柱状晶, 存在于柱晶之间的Si3N4界面相厚度为0.5~0.7nm, 呈现晶体态, 并与TiN形成共格界面. 进一步采用二维结构的TiN/Si3N4纳米多层膜的模拟研究表明,Si3N4层在厚度...
文章摘要: 在室温条件下, 用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜. 分析了薄膜的表面形貌、晶体结构, 测量了TiN薄膜的硬度, 研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响. 结果表明, 用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑, 颗粒尺寸为50$\sim$80 nm; 随着基底偏压的增大薄膜发生(111)面的择优取向. 随着偏压的提高, 薄膜的颗粒...

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