搜索结果: 91-105 共查到“光学工程 元件”相关记录123条 . 查询时间(0.158 秒)
大口径光学元件检测中的主要误差及其影响
大口径光学元件 传递函数 误差
2009/2/19
使用PSD作为大口径光学元件的质量评价标准，标定了测试系统的传递函数，并讨论了在对ICF驱动器中所使用的光学元件进行检测时产生的几种主要误差，分析了这些误差在进行计算和分析时可能造成的影响以及消除的方法。
大口径元件反射率的镜面扫描精密测量系统
光学测量 反射率 光腔衰荡
2009/2/19
为了测量高功率激光传输系统中大口径高反射率元件，研制了一种镜面扫描的精密测量系统。介绍了该系统的结构及其工作原理，分析了影响系统测量精度的因素，理论上估算的测量精度为2×10-5。在直腔下对该系统的性能进行了实验测试，分析表明，系统的测量不确定度优于2.052 28×10-5，最大测量误差为3.554 04×10-5，与理论预计结果吻合较好。对大口径元件进行的多次实验扫描测试，结果显示，镀膜加工误...
用改进的两步模拟退火法进行二元光学元件的设计
模拟退火 优化算法 计算全息
2009/2/16
为了减少二元光学元件设计的计算量并提高设计精度,在对现有算法机理进行深入分析的基础上,提出了适用于二元光学元件设计的两步模拟退火法.该算法在整个退火过程中采用先量化后优化的策略,并将优化过程分为两个阶段：搜索并锁定最优解区间；快速收敛到最优解.模拟实验显示,与传统设计方法相比,该算法不仅保持了全局寻优的特点,而且提高了稳健性和效率.算法剔除了对设计结果影响较大的量化误差,提高了设计精度.用此法实例...
菲涅尔全息型密集光波分复用元件（FH-DWDM）
菲涅尔 密集光波分复用元件 全息光波元件
2008/12/2
该项目产品价格低、通道容量大；使用寿命长，约10年以上；投资小，是现有产品的6%左右。该项目理论骨架及参数的设计，制作系统装置的选取已成熟，完成实验室小试。目前已进入实质性制作过程，但由于资金缺乏，如测试仪器没有，新材料制作工艺没有资金建立等等，进展缓慢。该产品适用于光通讯系统。
输出桔红光的10.6微米红外传感元件
红外传感元件 桔红光 红外光 转换
2008/11/25
一种输出桔红光的10.6微米红外传感元件。是一种热致发光材料。主要用于将CO_2激光器输出10.6um的红外光转换成桔红色的可见光。它由多元化合物烧制而成的陶质芯片构成的。构成陶质芯片化合物的主要化学成分是碱土硫化物，其中掺有两种稀土离子，一种是铕，另一种是镐、钬、铒。同时加适量的氟化碱，碱土氟化物和硫酸盐，以利增强发光强度。
微小光学基础元件-自聚焦透镜
聚焦透镜 光纤器件 光学元件 微小光学元件
2008/11/14
项目简介：自聚焦透镜是一种新型光电信息基础元件，它具有直径小(2mm以下)，数值孔径大(NA=0.6)，出射光斑小(可小于1微米)端面为平面，成像分辨率高(可大于200线对/毫米)，消象差性能好等特点，是制作光纤通信有源器件、无源器件的一种重要的耦合、连接元件，在光纤传感器、光信息处理、传真机、医疗器械、安全测量、工业检测中都有重要作用。
液晶平面显示器（LCD）用高精度光学元件研制开发
光学元件 液晶平面显示器
2008/11/6
合成棱镜、二向色板、高精度透镜作为LCD的核心部件，技术难度大，涉及光学、纳米技术、电学多种学科，工艺复杂。该项目对镀膜材料的选择、镀膜特性的稳定，镀膜吸收、散射的解决，及膜系的优化设计，镀膜特性曲线的漂移及溅射问题的解决，胶合用光敏胶的选择，胶合中间脊线的保证，渐变膜的形成，光学冷加工工艺的优化等问题进行了研究，开发了生产液晶平面显示器（LCD）用高精度光学元件。
微型NiFe磁性薄膜元件中Neel畴壁极性的转变过程
磁性薄膜元件 反磁化
2008/11/6
观察和分析了３００μｍ×４０μｍ×４０ｎｍ的ＮｉＦｅ磁性薄膜元件在难轴方向反磁化时磁畴结构转变特别是Ｎｅｅｌ畴壁从正极性壁（Ｎ＋）转变为负极性壁（Ｎ－）的全过程. 磁畴结构的转变包含畴壁合并，封闭畴转变，钩形畴转变及Ｎｅｅｌ畴壁极性转变等变的可逆因素，对畴壁极性转变的身份种方式（即Ｎ＋→Ｎ－直接转变及经由十字壁（Ｎｅｔ）ｒ Ｎ＋－→Ｎ－间接转变）进行了分析讨论.
腔内双折射元件造成激光纵模（频率）分裂现象和应用
分裂现象 腔内双折射元件 波长模强竞争现象
2008/11/3
该项成果主要内容包括：①提出了用腔内晶体石英片双折射，KD* P的电光效应分裂激光纵模的原理并导出了定量关系，提出了相对频率分裂和相对光程长度的概念；②使用了腔内四种不同的石英晶体切割和旋转方式都实现了激光纵模分裂的目的，得到了频率分裂量与晶片角度参数、位置参数等的关系曲线；③观察到6328A波长模强竞争现象并测到导致两竞争频率之一熄灭的频率范围约为40MHz；④研制成了全内腔石英晶片腔镜双折射...
一种光纤列阵元件制造方法
光纤列阵元件 制造方法
2008/9/24
本发明地目的是为了克服现有采用V型槽工艺制造光纤列阵元件地缺点，提供采用纳米材料喷涂和磁场光纤列阵排列制造技术地一种新的光纤列阵元件的制造方法。本发明地技术方案是：不采用V型槽工艺，而是采用纳米材料喷涂和恒定磁场光线列阵排列方法。特点是：首先将铁磁性纳米材料与稀释的粘结剂均匀混合，制成纳米涂料，采用纳米材料喷涂技术，制成涂层厚度均匀的纳米光纤列阵；应用约束条，使纳米光纤列阵紧紧地靠在元件地石英基片...
为建立更高功率的激光系统，就必须提高光学元件的负载，为此建立一台高稳定脉宽为2.5毫微秒，能量为几十焦耳，且脉宽和能量可调的两路高功率激光系统用于光学材料破坏研究，测量其破坏阈值，为高功率激光系统设计和建造提供必要的参考数据，并建立破坏形态的测量装置，监视破坏演化过程，探索破坏形成机理，以提供提高破坏阈值的方法和高功率激光系统在建造中需考虑的问题。
全息型稀疏光波分复用元件（H-CWDM）（2006）
波分复用 全息型 稀疏光
2008/8/28
该项目产品成本低(不按通道数计)；生产投资小；插入损耗不会随复用通路数的增加而增加；使用寿命长，约10年以上。该项目理论骨架及参数的设计，制作系统装置的选取已成熟，完成实验室小试。目前已进入实质性制作过程，但由于资金缺乏，如测试仪器没有，新材料制作工艺没有资金建立等等，进展缓慢。该产品适用于光纤通信中的波分复用系统。
全息型稀疏光波分复用元件（H-CWDM）（2004）
波分复用元件 光波分复用 全息光学元件
2008/8/28
该项目具有以下特点：产品成本低；生产投资小；插入损耗不会随复用通路数的增加而增加；使用寿命长，约10年以上。该项目的理论骨架及参数的设计，制作系统装置的选取已成熟，完成实验室小试，目前已进入实质性制作过程，但由于资金缺乏，如没有测试仪器，新材料制作工艺没有资金建立等等，进展缓慢。该项目产品主要适用于光纤通信中的波分复用系统。