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中国科学院化学研究所专利：一种有机异质结薄膜光敏电阻与基于有机共轭分子的光敏分压器
大面积头罩上类金刚石薄膜均匀性研究
光学薄膜 头罩 田口实验方法 均匀性
2016/8/29
根据军用光学仪器对红外窗口薄膜厚度均匀性的特殊要求，采用Femm42软件对射频等离子体化学气相沉积系统中真空室内的电场进行模拟分析，通过改变DOME的高度，并加入一金属圆环，解决了头罩边缘脱膜的问题。并利用田口实验方法指导实验，以减少实验次数，尽快找出影响薄膜性能的主次条件，同时可以分析各工艺参数对结果的影响趋势，最终确定最佳的工艺参数，在大面积头罩上成功镀制了厚度均匀性小于3%，且能承受恶劣环境...
薄膜法布里-珀罗滤光片的偏振特性
薄膜光学 法布里 珀罗滤光片 偏振性
2011/4/19
用特征矩阵法研究了薄膜法布里-珀罗滤光片的偏振特性。研究发现：随着入射角增大，s偏振光透射模和p偏振光透射模的波长逐渐分离，但分离的幅度较小；随着入射角增大，s偏振光透射模的透射率作幅度较大的震荡变化，而p偏振光透射模的透射率变化较小；当入射角以1°/100的间隔变化时，可以在透射模波长不变的情况下，使s偏振光透射模的透射率发生显著变化，而p偏振光透射模的透射率基本不变。薄膜法布里-珀罗滤光片的偏...
比较2种溅射方法镀制的氧化硅薄膜
磁控反应溅射 离子束反应溅射 折射率 消光系数
2011/4/19
比较了磁控反应溅射(RMS)法与离子束反应溅射(RIBS)法沉积得到的氧化硅薄膜的光学特性，并确定了其对折射率n、消光系数k、沉积速率和混合工作气体Ar/O2中氧含量的依赖性关系。工作气体中O2含量大于15％时通过RMS法沉积的氧化硅薄膜在0.63μm波长折射率约为1.52～1.55，消光系数低于10-5。当O2含量在80％以上时RIBS方法沉积氧化硅薄膜的折射率n=1.52～1.6，消光系数低于...
空间薄膜反射镜的研究发展现状
空间薄膜反射镜 薄膜理论 静电拉伸 充气
2009/11/2
空间薄膜反射镜由于具有面密度低，易于折叠展开且成本低等优点很好地满足了空间反射镜的超轻量、超大口径的要求，因此在空间科学研究领域倍受关注。介绍了空间薄膜反射镜的发展，包括薄膜反射镜的理论基础，充气式薄膜反射镜和静电拉伸薄膜反射镜及其他类型的反射镜的代表成果。而后对空间薄膜反射镜的技术难点进行了分析;重点讨论了薄膜反射镜用聚酰亚胺薄膜的生产情况以及薄膜反射镜的面形控制、面形检测和反射镜支撑结构的设计...
金属薄膜亚波长微结构的光束集束器件设计
表面等离子 亚波长金属狭缝 薄膜
2009/8/13
利用时域有限差分方法,模拟了P偏振光高斯光束入射到金属银亚波长细缝与光栅结构的透射情况.由于表面等离子激元波的影响,对称光栅结构透射光呈现对称出射,而非对称结构可以实现小角度定方向的光束集束现象.借助公式推导法及Helmholtz互易定理,可设计出平行入射P偏振光的光束集束器件.由于高斯光束本身的发散性及近场分布的需要,针对高斯光束的器件在结构参量上缩小了12%.在对其他结构参量的优化的基础上,实...
新型有机－无机复合材料薄膜的光学特性及光学器件研究
复合材料 薄膜 光学器件
2008/11/6
利用离子聚合法合成并获得优良光学性能的PPV衍生物及其硅玻璃基复合材料；利用物理与化学相结合的研究手段，特别是固体高分辨核磁共振技术，从分子水平上研究材料化学结构、聚集状态、电子状态等，探明与材料性能的关系，为合成高性能的光学材料提供分子设计理论指导。研制PPV衍生物及其硅基复合材料的原型光子器件（如光学双稳器、光开关、光存储器等），显示其性能。
在宽束冷阴极离子源和端部霍尔离子源辅助沉积情况下，利用南光ZZS7001/G箱式镀膜机，通过实验分别验证了这两种离子束辅助沉积对光学膜层透过率和应力的影响。通过对大量实验数据进行分析，得出利用低能量和大电流离子束辅助沉积光学薄膜时，膜层性能优于高能量离子束辅助沉积膜层。分析了膜层特性改变的原因，并提出了合理的工艺参数。实验结果表明，低能量、大电流的离子束辅助沉积使光学薄膜的性能更佳。
重复率激光作用下光学薄膜损伤的累积效应
Ta2O5/SiO2介质反射膜 累积效应 重复率 缺陷
2008/3/16
摘要:使用脉宽12 ns，频率10 Hz的1064 nm调Q Nd：YAG激光器，研究了高反射膜在重复率激光作用下的损伤的累积效应。实验发现，高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低，表现出明显的累积效应。通过对损伤阈值和损伤概率以及辐照次数的统计性研究，并结合单脉冲辐照的结果，说明了存在于薄膜中微小的缺陷参与了多脉冲激光对薄膜的损伤过程。可用预损伤机制解释实验结果。得到了关于IBS制备的高反射膜...
三维扫描技术在薄膜厚度分布测量中的应用
2007/8/20
提出了利用相位跟踪法测量薄膜厚度分布的新方法,介绍了测量系统各部分的结构,给出了测量结果.实验表明,对于硅片上的PbTiO3薄膜,测试误差小于7 nm.