搜索结果: 1-15 共查到“等离子体物理学 薄膜”相关记录20条 . 查询时间(0.148 秒)
中国科学院电工研究所放电等离子体技术用于储能电容器薄膜性能提升获新进展（图）
放电等离子体 电容器 薄膜性能
2024/2/29
2024年2月5日，电工研究所研究员邵涛团队利用放电等离子体提升储能电容器薄膜性能获得新进展。基于团队在气体放电机理、参数调控及材料改性应用等方面的长期积累，研究通过气体放电驱动准分子深紫外光源，在常压空气中辐照商业电容器薄膜，仅一步处理显著提升薄膜击穿电场、储能密度等性能，对突破国产储能电容器薄膜性能瓶颈具有重要意义。
反场构型平面薄膜电爆炸等离子体电流通道
电爆炸薄膜 反场构型 电感模式 电流密度分布
2022/3/17
Z箍缩负载初始化电流通道的形成建立过程、电流密度分布模式及其演化特征对研究等离子体动力学发展、分析等离子体不稳定性模式、开展磁流体数值模拟工作等具有重要意义。平面薄膜是研究这一问题中具有连续二维结构的理想构型。基于理想无限长平板假设下的反场薄膜-回流柱负载模型，通过理论对电感主导模式下的电流通道建立和演化过程、薄膜平面磁场分布特征和薄膜各部分受力特征进行了计算分析。通过开展对称型与非对称型下的平面...
高熵合金氮化物薄膜是一种基于高熵合金设计理念的产物，在热力学和动力学上可以分别具有更低的吉布斯自由能和更小的元素扩散速率，抑制了金属间化合物有序相的生成，促进简单固溶体结构甚至非晶相的形成。独特的设计理念以及相结构赋予高熵合金氮化物薄膜超高硬韧性、优异耐磨和耐蚀性以及超强阻隔性等优异的物理性能，在航空航天、交通、能源等领域显示出广阔应用前景。直流/射频磁控溅射（DC/RF-MS）是制备高熵合金氮化...
近期，中国科学院等离子体物理研究所应用等离子体研究室环境与放射化学课题组利用自组装的方法合成了多功能的、独立的柔性薄膜材料，并应用于对水体中放射性离子Sr和Cs的去除与分离，同时通过对其表面改性后得到疏水性材料用于去除油性物质。该研究成果发表在Scientific Reports（Sci.Rep.6，20920, DOI:10.1038/srep20920 2016）上。
共轭高分子由于具有容易加工的特性，被广泛应用于柔性显示、太阳电池、集成电路等领域，已经成为高分子领域的重要分支。因此通过简单而行之有效的方法调控其形貌，从而显著提高其性能成为近年来的研究热点。
中国科学技术大学工程科学学院合作在氧化石墨烯薄膜离子筛选研究中获重要进展
氧化石墨烯 薄膜离子 离子海绵效应
2014/3/12
近日，中国科学技术大学工程科学学院吴恒安教授和王奉超博士与英国曼彻斯特大学Andre Geim教授（2010年诺贝尔物理奖获得者）课题组合作，在氧化石墨烯薄膜快速筛选离子研究方面取得了突破性进展。研究成果发表在2月14日出版的Science上。同期Science专门对此研究成果进行了展望评述。
基于正交试验方法，系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数（基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量）之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性，利用全光谱反演计算法获得薄膜的折射率，通过测量基底镀膜前后的表面变形量得到SiO2薄膜的应力。实验结果表明，工艺参数对薄膜折射率影响权重从大到小依次为氧气流量、基板温度、离子束流和离子束压，前三...
金属薄膜上的表面等离激元和Fano共振研究取得重要进展（图）
金属薄膜 等离激元 Fano共振
2013/1/4
表面等离激元（surface plasmon）是金属中自由电子的一种元激发，用来描述电子在外场激励下振荡的集体运动行为。由于基于表面等离激元的器件具有能够突破衍射极限、实现局域场增强和对介电环境敏感等性质，表面等离激元研究日益受到广泛重视并得到快速发展。近年来，中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家实验室（筹）邱祥冈研究员领导的SC3课题组在该领域取得了若干重要进展。
利用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜, 研究了Si含量对薄膜组织结构以及力学性能的影响. 结果表明, Ti-Al-Si-N薄膜主要由晶态TiAlN和非晶态的Si3N4组成, 随着Si含量的增加, XRD衍射峰强度减弱, 晶粒尺寸减小; 薄膜的显微组织也由明显的柱状晶转变为致密的纳米晶结构. 利用纳米硬度仪对薄膜的硬度和弹性模量进行了分析, 结果表明, ...
北京大学化学学院Nature Chemistry发表刘忠范-彭海琳课题组在拓扑绝缘体柔性透明导电薄膜方面的研究进展（图）
Nature Chemistry 刘忠范-彭海琳课题组 拓扑绝缘体 柔性透明导 电薄膜方面 研究进展
2012/3/8
拓扑绝缘体是一种全新的量子功能材料，其块材内部是有带隙的绝缘态，表面或边界存在无能隙的金属态，表现为无质量的狄拉克费米子。因拓扑保护，表面态形成的二维电子气非常稳定，基本不受杂质与无序的影响，在新原理纳电子器件、自旋器件、量子器件、清洁能源和催化等方面有广泛的应用前景。拓扑绝缘体(如Bi2Se3，Bi2Te3，Sb2Te3）纳米薄片是一种新型准二维晶体，它独特的二维层状结构和拓扑保护的表面金属态显...
CHF3/Ar 等离子体刻蚀BST 薄膜的机理研究
钛酸锶钡 反应离子刻蚀 光电子能谱 等离子体
2013/8/27
采用XPS 方法, 通过对刻蚀前后BST(钛酸锶钡)薄膜表面成分、元素化合态以及原子相对百分含量分析, 探讨了CHF3/Ar 等离子刻蚀BST 薄膜的RIE(反应离子刻蚀)机理. 研究结果表明, 在刻蚀过程中, 金属Ba, Sr, Ti 和F 等离子体发生化学反应并生成相应的氟化物且部分残余在薄膜表面, 因为TiF4 具有高挥发特性, 残余物几乎没有钛氟化物. 然而, XPS 表明Ti-F 仍然少...
染料敏化纳米薄膜太阳电池中DMPII浓度的优化
1,2-二甲基-丙基咪唑碘 氧化还原 染料敏化 太阳电池
2009/11/26
利用超微铂电极和循环伏安法及电化学阻抗谱研究了在1,2-二甲基-3-丙基咪唑碘(DMPII)的3-甲氧基丙腈(MePN)溶液中I3－和I－的氧化还原行为，并对比了由不同浓度的I2和DMPII组成的电解质溶液，其染料敏化纳米薄膜太阳电池(DSCs)的光伏性能. 发现以MePN为溶剂，含1.0 mol•dm-3 DMPII、0.12 mol•dm-3 I2、0.10 mol&#...
Ni掺杂ZnO薄膜的荧光特性
ZnO薄膜 掺杂效应 荧光特性
2009/10/26
采用脉冲激光沉积技术(PLD)在单晶Si 衬底上制备了Ni掺杂的ZnO薄膜，通过VARAIN Cary-Eclips 500型荧光光谱仪研究了样品的荧光特性。观察到360和380 nm左右2个荧光峰。通过Ni掺杂，研究了360 nm左右荧光峰的起源。结果表明，随着靶材中Ni掺杂量的不同，荧光峰峰位不变，而相应的发光强度发生了明显的变化。当靶材中Ni∶ZnO的摩尔比Xs为5％时，样品中360 nm紫...
低能离子在C60薄膜中引起的辐照效应
辐照效应 C薄膜 低能离子 退火效应
2009/6/12
用Raman(拉曼)散射技术分析了120keV的H,Ar和Fe离子在C60薄膜中引起的辐照效应,主要指由晶态向非晶态的转变.分析结果表明,在Fe和Ar离子辐照的C60薄膜中,核碰撞主导了由晶态向非晶态的转变过程.而在H离子辐照的情况下,电子能损起主导作用,并发现在H离子辐照过程中,电子能损有明显的退火效应,致使由晶态向非晶态转变的过程中,经历了一个石墨化的中间过程.