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iGrapher810具有在40"尺度上进行亚微米至纳米结构图形快速制造(Nano-structrure patterning)的性能。在光斑中通过多光束干涉技术调制了100nm以上周期与准周期结构(线条、点阵、蜂窝、随机线等),图形的制作时间取决于光斑像素的尺寸,与像素内部的微纳结构无关。

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