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投影光刻机为制造大规模集成电路关键设备,我所研制光学系统,机械结构由上海无线电机械厂负责。〓主要技术性能指标:焦距:f=86.4mm;放大率:M=-1/5倍;象面直径:Φ10mm;物距;342.9mm;象距:39.86mm;相对孔径:1°1.2;光拦孔径可变,最大Φ30mm

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